Durchbruch in der Chip-Technologie
3. März 2000
IBM-Forscher wollen eine neue Technologie entwickelt haben, mit der in ein paar Jahren mehrere Milliarden Transistoren auf einem einzigen Chip plaziert werden können. Um immer höhrere Taktraten zu erreichen, sind Prozessor-Hersteller derzeit noch gezwungen, die Grösse der Transistoren zu verkleinern – mit den derzeit im Labor schon erreichten 0,1 Mikron (100 Nanometer) ist allerdings das Ende der Fahnenstange bei der aktuellen lithographischen Methode annähernd erreicht.
Die neue Technologie, die IBM zusammen mit Nikon entwickelt und die den Namen "PREVAIL" (Projection Reduction Exposure With Variable Axis Immersion Lenses) trägt, erlaubt den Entwicklern zufolge nicht nur die Konstruktion wesentlich kleinerer Komponenten – es wird von einer "Grösse" von bis zu 35 Nanometern gesprochen –, sondern soll auch deutlich höhere Produktionsprozesse ermöglichen.
PREVAIL, vergleichbar mit der Fernsehtechnologie, nutzt für die Lithographie Elektronenstrahlen, die eine wesentlich kürzere Wellenlänge aufweisen als die derzeit gebräuchlichen UV-Strahlen. (pcg)
Die neue Technologie, die IBM zusammen mit Nikon entwickelt und die den Namen "PREVAIL" (Projection Reduction Exposure With Variable Axis Immersion Lenses) trägt, erlaubt den Entwicklern zufolge nicht nur die Konstruktion wesentlich kleinerer Komponenten – es wird von einer "Grösse" von bis zu 35 Nanometern gesprochen –, sondern soll auch deutlich höhere Produktionsprozesse ermöglichen.
PREVAIL, vergleichbar mit der Fernsehtechnologie, nutzt für die Lithographie Elektronenstrahlen, die eine wesentlich kürzere Wellenlänge aufweisen als die derzeit gebräuchlichen UV-Strahlen. (pcg)
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